?? 线列式PECVD等离子体化学气相沉积镀膜设备 - 中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司
PRODUCT

产品中心

首页 ? 产品中心 ? CVD镀膜设备 ? PECVD系列等离子体化学气相沉积镀膜设备

线列式PECVD等离子体化学气相沉积镀膜设备
编号:SN20151013154830471
类别:PECVD系列等离子体化学气相沉积镀膜设备
  • 产品概述
  • 规格参数
  • 服务支持

    设备用途

        本设备采用等离子体增强化学气相沉积技术yy彩票登录官网首页,在光学玻璃yy彩票登录官网首页、硅、石英以及不锈钢等不同衬底材料上沉积氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜yy彩票登录官网首页,用以制备非晶硅和微晶硅薄膜太阳电池器件?yy彩票登录官网首页?晒惴河τ糜诖笞ㄔ盒?、科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备。

     

    设备组成

        多室CVD结构由2个进出片室、3个独立PECVD反应真空室按直线结构连接,工件通过传输机构输送到各个真空室中进行工艺处理,各真空室间用插板阀连接yy彩票登录官网首页yy彩票登录官网首页。该系统主要由真空室yy彩票登录官网首页、真空获得系统yy彩票登录官网首页、射频和甚高频电源yy彩票登录官网首页、衬底加热控温系统、气路系统yy彩票登录官网首页、尾气处理系统、传动系统等部分组成yy彩票登录官网首页。

留言咨询 (* 为必填项目)
* 姓名
* 内容
* 验证码
 
QQ在线咨询
在线QQ客服
3249891528
咨询热线
024-23826855
yy彩票登录官网首页